[发明专利]将一光敏层曝光之装置及方法

权利要求书

1.一种用于使用光学系统和基板固持器来曝光基板的光敏层的方法，该基板固定于该基板固持器上，该光学系统包括一个或多个光源和一个或多个微镜装置，所述一个或多个微镜装置分别具有一个或多个微镜，所述方法包括：

使所述一个或多个微镜装置和所述基板分别沿第一方向同时移动的第一步骤，所述一个或多个微镜装置移动的第一方向与所述基板移动的方向相同；

在所述第一步骤之后和/或在所述第一步骤期间，分别从所述一个或多个光源发射一个或多个光线；和

在发射所述一个或多个光线之后使所述一个或多个微镜装置沿第二方向并且使所述基板沿所述第一方向同时移动的第二步骤，所述第二方向不同于所述第一方向。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，从镜强度分布产生曝光图案的像素，并且

其中所述像素大于所述曝光图案的个别图案。

3.根据权利要求2所述的方法，其中，基于所述微镜的几何形状产生所述像素。

4.根据权利要求1所述的方法，其中，所述曝光图案是两个或更多个曝光图案中的一个，

其中照明所述两个或更多个曝光图案中的至少两个曝光图案，和

其中所述至少两个曝光图案的图案强度分布重迭为一总和，以形成所述光敏层的曝光强度分布。

5.根据权利要求4所述的方法，其中，藉由所述微镜在所述曝光图案中的不清晰成像来发生重迭。

6.根据权利要求4所述的方法，其中，一个接一个循序照明所述至少两个曝光图案，并且所述至少两个曝光图案在所述微镜装置中的相应的微镜装置与小于一个像素宽度的所述光敏层之间以相对位移来位移。

7.根据权利要求4所述的方法，其中，循序照明所述两个或更多个曝光图案中的所述至少两个曝光图案。

8.根据权利要求2所述的方法，其中，所述曝光图案的曝光图案网格线是水平的和/或垂直的，以及

其中所述曝光图案网格线倾斜延伸和/或经过畸变地来布置。

9.根据权利要求8所述的方法，其中，所述曝光图案的所述曝光图案网格线是水平的且彼此平行延伸，以及

其中倾斜延伸地和/或经过畸变地布置所述曝光图案网格线。

10.根据权利要求9所述的方法，其中，仿射地布置所述曝光图案网格线。

11.根据权利要求8所述的方法，其中，所述曝光图案的所述曝光图案网格线是垂直的且彼此平行延伸，以及

其中倾斜延伸地和/或经过畸变地布置所述曝光图案网格线。

12.根据权利要求11所述的方法，其中，仿射地布置所述曝光图案网格线。

13.根据权利要求1所述的方法，其中，所述第二方向与所述第一方向相反。

14.根据权利要求1所述的方法，其中，所述第二方向垂直于所述第一方向。

15.一种用于曝光基板的光敏层的装置，所述装置包括：

该基板固定于其上的基板固持器，该基板固持器配置为，使该基板沿第一方向移动；和

光学系统，该光学系统包括：

一个或多个微镜装置，所述一个或多个微镜装置分别包括一个或多个微镜；和

一个或多个光源，所述一个或多个光源分别配置为，在使该基板和所述一个或多个微镜装置沿第一方向同时移动之后和/或期间，发射一个或多个光线，

其中该光学系统和该基板固持器配置为，分别使所述一个或多个微镜装置沿所述第一方向和使该基板沿所述第一方向同时移动，和

其中该光学系统和该基板固持器配置为，分别使所述一个或多个微镜装置沿第二方向和使该基板沿所述第一方向同时移动。