[发明专利]一种反离心间断式纳米材料湿法研磨装置有效
申请号: | 202111514023.0 | 申请日: | 2021-12-13 |
公开(公告)号: | CN114345502B | 公开(公告)日: | 2022-12-13 |
发明(设计)人: | 江沐风;吴登钱;吉云飞;肖苏萍 | 申请(专利权)人: | 上海天新纳米技术有限公司 |
主分类号: | B02C19/00 | 分类号: | B02C19/00;B02C19/18;B02C23/06;B02C23/36 |
代理公司: | 北京盛凡佳华专利代理事务所(普通合伙) 11947 | 代理人: | 马红蕾 |
地址: | 200000 上海市宝山*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种反离心间断式纳米材料湿法研磨装置,包括底板、升降板、支撑板、碾磨罐、反离心式间断借力冲散型精研机构、分散流式预先集中空化融合机构、振荡垂直摆动机构和大颗粒循环机构,所述升降板对称设于底板上壁两端,所述支撑板设于底板的一端上壁,所述碾磨罐设于升降板之间,所述反离心式间断借力冲散型精研机构设于底板上壁的中间位置。本发明属于研磨装置领域,具体是指一种反离心间断式纳米材料湿法研磨装置;本发明提供一种反离心运动、固液混合充分和研磨均匀的反离心间断式纳米材料湿法研磨装置。 | ||
搜索关键词: | 一种 离心 间断 纳米 材料 湿法 研磨 装置 | ||
【主权项】:
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