[发明专利]一种反离心间断式纳米材料湿法研磨装置有效

专利信息
申请号: 202111514023.0 申请日: 2021-12-13
公开(公告)号: CN114345502B 公开(公告)日: 2022-12-13
发明(设计)人: 江沐风;吴登钱;吉云飞;肖苏萍 申请(专利权)人: 上海天新纳米技术有限公司
主分类号: B02C19/00 分类号: B02C19/00;B02C19/18;B02C23/06;B02C23/36
代理公司: 北京盛凡佳华专利代理事务所(普通合伙) 11947 代理人: 马红蕾
地址: 200000 上海市宝山*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 离心 间断 纳米 材料 湿法 研磨 装置
【说明书】:

发明公开了一种反离心间断式纳米材料湿法研磨装置,包括底板、升降板、支撑板、碾磨罐、反离心式间断借力冲散型精研机构、分散流式预先集中空化融合机构、振荡垂直摆动机构和大颗粒循环机构,所述升降板对称设于底板上壁两端,所述支撑板设于底板的一端上壁,所述碾磨罐设于升降板之间,所述反离心式间断借力冲散型精研机构设于底板上壁的中间位置。本发明属于研磨装置领域,具体是指一种反离心间断式纳米材料湿法研磨装置;本发明提供一种反离心运动、固液混合充分和研磨均匀的反离心间断式纳米材料湿法研磨装置。

技术领域

本发明属于研磨装置技术领域,具体是指一种反离心间断式纳米材料湿法研磨装置。

背景技术

纳米材料是以树脂、橡胶、陶瓷和金属等基体为连续相,以纳米尺寸的金属、半导体、刚性粒子和其他无机粒子、纤维、纳米碳管等改性剂为分散相,通过适当的制备方法将改性剂均匀性地分散于基体材料中,形成含有纳米尺寸材料的复合体系。纳米材料通常又被称为超细粉末或者是超细微粒,其结构具有独特性,而一些纳米材料的制备需要将原料先进行充分的研磨以达到需要的粒径后才能进行后续的反应制备,因此原料研磨的质量与效率就尤其重要。

目前现有的纳米材料研磨装置存在以下几点问题:

1、传统碾磨装置在对纳米材料进行碾磨时,会产生大量的含尘气体,污染周围环境;

2、湿法研磨通过改变电机的正反转来改变水流的方向,从而对纳米材料研磨部位进行更换,但是,电机在长时间的启停正反转工作下,电机工作负载提高,降低电机的使用寿命;

3、湿法研磨中无法对纳米材料进行预处理混合,从而导致纳米材料在研磨时发生堆积的现象,造成纳米材料研磨效率低下。

发明内容

针对上述情况,为克服现有技术的缺陷,本方案提供一种反离心间断式纳米材料湿法研磨装置,针对湿法研磨水流方向单一的问题,创造性的将离心搅拌结构、冲击波效应和借助中介物原理相结合,在反离心运动的作用下,通过设置的反离心式间断借力冲散型精研机构,通过动力冲击机构和液体研磨机构的结合使用下,实现了对水流的冲击,使得纳米材料在水流旋转中被间断式的击散,击散后的纳米材料重新组合,在离心运动的作用下再次与研磨砂层紧密贴合,从而完成对纳米材料各部位的均匀研磨,解决了现有技术难以解决的既要使用水流旋转研磨(湿法研磨相对干法研磨而言,环保、物灰尘产生),又不要使用水流旋转研磨(水流方向单一使纳米材料研磨部位不均匀、电机正反转改变水流方向,容易增大工作负载、降低使用寿命)的矛盾技术问题;提供一种反离心运动、固液混合充分和研磨均匀的反离心间断式纳米材料湿法研磨装置。

本方案采取的技术方案如下:本方案提出的一种反离心间断式纳米材料湿法研磨装置,包括底板、升降板、支撑板、碾磨罐、反离心式间断借力冲散型精研机构、分散流式预先集中空化融合机构、振荡垂直摆动机构和大颗粒循环机构,所述升降板对称设于底板上壁两端,所述支撑板设于底板的一端上壁,所述碾磨罐设于升降板之间,所述反离心式间断借力冲散型精研机构设于底板上壁的中间位置,所述分散流式预先集中空化融合机构设于碾磨罐远离支撑板一侧的底板上壁,所述振荡垂直摆动机构设于升降板靠近碾磨罐的一侧,所述大颗粒循环机构设于支撑板远离碾磨罐的一侧。

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