[发明专利]一种浇注可逆元器件制样研磨方法在审
| 申请号： | 202111504593.1 | 申请日： | 2021-12-10 |
| 公开（公告）号： | CN114414322A | 公开（公告）日： | 2022-04-29 |
| 发明（设计）人： | 张超;姬青;罗宇华;汪波;楼建设 | 申请（专利权）人： | 上海精密计量测试研究所 |
| 主分类号： | G01N1/28 | 分类号： | G01N1/28;G01N1/36 |
| 代理公司： | 上海航天局专利中心 31107 | 代理人： | 孙瑜 |
| 地址： | 201109 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供了一种浇注可逆元器件制样研磨方法，其特征在于，包括步骤：步骤1：将在80℃熔化成液体的石蜡引流致放置有样品的模具中；步骤2：将冷却固化的石蜡连同其中的样品从模具中取下，开展研磨、抛光，对抛光后的制样进行镜检、拍照；步骤3：采用对样品无损的方式将石蜡熔化成液态，从液状石蜡中取出完成镜检、拍照流程的样品，并对样品进行清洗。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 浇注 可逆 元器件 研磨 方法 | ||
【主权项】：
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