[发明专利]一种低残碱高镍无钴正极材料及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202111501617.8 申请日: 2021-12-09
公开(公告)号: CN114171737A 公开(公告)日: 2022-03-11
发明(设计)人: 李崇;乔水伶;吕明;梁超;王慧萍;方向乾;曹壮;张彩红;李伟 申请(专利权)人: 扬州虹途电子材料有限公司
主分类号: H01M4/505 分类号: H01M4/505;H01M4/525;H01M4/58
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 225800 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种低残碱高镍无钴正极材料,其化学表达式为LixNiaMnbO2,其中0.75a≤0.95,0.05≤b0.25,a+b=1,0.95≤x≤1.15。本发明采用过氧化锶作为添加剂,起到了降残碱和助熔的作用;采用纯水作为水洗剂,洗掉材料表面未反应的LiOH,降低了表面残碱;同时,磷酸二氢盐包覆液与材料表面的残碱反应,达到降低材料表面残碱的目的,生成的新物质包覆在材料表面,减少电解液对基体材料的腐蚀,有效抑制副反应。利用此方法所制备的高镍无钴正极材料残碱低、容量高和循环性能好,以及广泛的工业应用价值。
搜索关键词: 一种 低残碱高镍无钴 正极 材料 及其 制备 方法
【主权项】:
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