[发明专利]一种点源角反射器阵列RCS模拟评估方法和装置在审

专利信息
申请号: 202111483755.8 申请日: 2021-12-07
公开(公告)号: CN113960560A 公开(公告)日: 2022-01-21
发明(设计)人: 朱超颖;李胜;曾克思;崔闪;张文林;李焕敏 申请(专利权)人: 北京环境特性研究所
主分类号: G01S7/41 分类号: G01S7/41;G01S7/40
代理公司: 北京格允知识产权代理有限公司 11609 代理人: 王文雅
地址: 100854*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种点源角反射器阵列RCS模拟评估方法和装置,该方法的一个具体实施方式包括:对待评估的点源角反射器阵列进行电磁仿真计算,获取所述点源角反射器阵列的雷达散射截面RCS值;对获取的所述点源角反射器阵列的RCS值进行平滑处理,得到平滑后的RCS值;根据所述平滑后的RCS值对所述点源角反射器阵列的RCS模拟精度和RCS分布均匀性进行评估;其中,所述RCS模拟精度包括整体RCS精度和中心RCS精度,RCS分布均匀性包括RCS方位向分布均匀性和RCS俯仰向分布均匀性。该实施方式能够针对点源角反射器阵列的RCS模拟精度和RCS分布均匀性进行准确评估。
搜索关键词: 一种 点源角 反射 阵列 rcs 模拟 评估 方法 装置
【主权项】:
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