[发明专利]一种AMR磁阻结构有效

专利信息
申请号: 202111449291.9 申请日: 2021-12-01
公开(公告)号: CN114236436B 公开(公告)日: 2023-05-30
发明(设计)人: 朱剑宇;杨世霞 申请(专利权)人: 上海麦歌恩微电子股份有限公司
主分类号: G01R33/09 分类号: G01R33/09
代理公司: 上海大邦律师事务所 31252 代理人: 王松
地址: 200050 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明揭示了一种AMR磁阻结构,所述AMR磁阻结构包括:第一路惠斯通电桥和第二路惠斯通电桥;所述第一路惠斯通电桥包括第一磁阻、第二磁阻、第三磁阻、第四磁阻;所述第一磁阻、第二磁阻、第三磁阻、第四磁阻依次连接,所述第四磁阻连接第一磁阻;所述第二路惠斯通电桥包括第五磁阻、第六磁阻、第七磁阻、第八磁阻;所述第五磁阻、第六磁阻、第七磁阻、第八磁阻依次连接,所述第八磁阻连接第五磁阻。本发明提出的AMR磁阻结构,可用于平面内任意磁场的角度计算,可用于平面内任意角度磁场强度的计算,同时可减小磁阻条之间的失配,减小磁阻传感器的offset。
搜索关键词: 一种 amr 磁阻 结构
【主权项】:
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