[发明专利]投影装置、显示系统及光源组件的制备方法在审
| 申请号： | 202111342360.6 | 申请日： | 2021-11-12 |
| 公开（公告）号： | CN113885287A | 公开（公告）日： | 2022-01-04 |
| 发明（设计）人： | 俞洋 | 申请（专利权）人： | 福州京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03B21/20 | 分类号： | G03B21/20 |
| 代理公司： | 北京市立方律师事务所 11330 | 代理人： | 张筱宁;宋海斌 |
| 地址： | 350300 福建省*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本申请实施例提供了一种投影装置、显示系统及光源组件的制备方法。在本申请实施例提供的投影装置中，通过在光源组件的基板设置凹弧面，光源组件包括微型发光单元，且微型发光单元设置于凹弧面，相较于平面型的基板，具有凹弧面的基板能够设置更多的微型发光单元，从而使得光源组件的亮度提升，能够提高投影图像的显示亮度和对比度，能够保障投影图像的显示效果，能够拓展投影装置的应用场景。微型发光单元相较于传统的LED发光单元，具有更小的体积、具有更高的亮度，能够进一步提高投影图像的显示亮度和对比度。同时，能够提高投影装置内部的空间利用率，够降低投影装置的体积，便于投影装置的轻薄化，能够进一步拓展投影装置的应用场景。 | ||
| 搜索关键词： | 投影 装置 显示 系统 光源 组件 制备 方法 | ||
【主权项】：
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