[发明专利]投影装置、显示系统及光源组件的制备方法在审

专利信息
申请号: 202111342360.6 申请日: 2021-11-12
公开(公告)号: CN113885287A 公开(公告)日: 2022-01-04
发明(设计)人: 俞洋 申请(专利权)人: 福州京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G03B21/20 分类号: G03B21/20
代理公司: 北京市立方律师事务所 11330 代理人: 张筱宁;宋海斌
地址: 350300 福建省*** 国省代码: 福建;35
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 投影 装置 显示 系统 光源 组件 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种投影装置,其特征在于,包括:投影图像生成组件和第一凸透镜;

所述投影图像生成组件包括光源组件,所述光源组件包括基板和多个微型发光单元,所述基板朝向所述第一凸透镜的一面为凹弧面;所述微型发光单元设置于所述凹弧面;

所述第一凸透镜,设置于所述光源组件的出光侧。

2.根据权利要求1所述的投影装置,其特征在于,所述微型发光单元均为第四颜色的微型发光二极管,所述微型发光二极管沿所述凹弧面阵列排布;

所述投影图像生成组件还包括显示面板,用于显示原始投影图像,所述显示面板设置于所述第一凸透镜的出光侧。

3.根据权利要求2所述的投影装置,其特征在于,沿所述第一凸透镜的中心指向所述第一凸透镜的边缘的方向,所述第一凸透镜的折射率呈梯度变化,使得所述微型发光单元入射至所述第一凸透镜的光束转换为平行光束向所述显示面板出射。

4.根据权利要求3所述的投影装置,其特征在于,还包括:第二凸透镜,设置于所述显示面板的出光侧,用于将所述显示面板显示的原始投影图像投影出去;

所述第二凸透镜与所述显示面板之间的距离,大于所述第二凸透镜的焦距,且小于两倍的所述第二凸透镜的焦距。

5.根据权利要求3所述的投影装置,其特征在于,所述第一凸透镜包括多个具有不同折射率的透镜单元,多个所述透镜单元同心设置;

沿所述第一凸透镜的径向,一个透镜单元的折射率,与位于中心的透镜单元的折射率成正比,并与所述一个透镜单元和位于中心的透镜单元的距离成反比。

6.根据权利要求5所述的投影装置,其特征在于,沿所述第一凸透镜的轴向,所述第一凸透镜中的每个所述透镜单元与最靠近所述透镜单元的所述微型发光单元之间的距离,等于所述第一凸透镜的焦距。

7.根据权利要求1所述的投影装置,其特征在于,所述微型发光单元包括第一颜色的微型发光二极管、第二颜色的微型发光二极管、第三颜色的微型发光二极管和第四颜色的微型发光二极管;所述第一颜色的微型发光二极管、所述第二颜色的微型发光二极管、所述第三颜色的微型发光二极管和所述第四颜色的微型发光二极管均沿所述凹弧面阵列排布;

所述第一颜色、所述第二颜色和所述第三颜色的微型发光二极管用于显示原始投影图像;所述第四颜色的微型发光二极管用于对所述原始投影图像进行亮度补偿。

8.根据权利要求7所述的投影装置,其特征在于,所述第一凸透镜包括多个具有不同折射率的透镜单元,多个所述透镜单元同心设置;

沿所述第一凸透镜的轴向,所述第一凸透镜中的每个所述透镜单元与最靠近该透镜单元的所述微型发光单元之间的距离,小于该透镜单元的焦距,使得所述原始投影图像在所述第一凸透镜靠近所述微型发光单元的一侧形成虚像。

9.根据权利要求8所述的投影装置,其特征在于,还包括:第二凸透镜,设置于所述第一凸透镜的出光侧,用于将所述第一凸透镜转化后的、与所述虚像相对应的图像投影出去;

所述第一凸透镜虚像所在的成像面与所述第二凸透镜之间的距离,大于所述第二凸透镜的焦距,且小于两倍的所述第二凸透镜的焦距。

10.根据权利要求1所述的投影装置,其特征在于,所述凹弧面的最大凹陷距离,小于所述凹弧面的曲率半径。

11.一种显示系统,其特征在于,包括:投影屏幕和如权利要求1-10中任一项所述的投影装置,所述投影幕布设置于所述投影装置的出光侧。

12.一种应用于如权利要求1-10中任一项所述的投影装置的投影图像生成组件中光源组件的制备方法,其特征在于,包括:

将多个微型发光单元转移至柔性衬底;

将所述柔性衬底贴合至基板的凹弧面;所述柔性衬底的面积与所述凹弧面的面积相同。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于福州京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司,未经福州京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111342360.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top