[发明专利]防污染装置、电离腔体及射频离子源在审
| 申请号： | 202111320485.9 | 申请日： | 2021-11-09 |
| 公开（公告）号： | CN114231936A | 公开（公告）日： | 2022-03-25 |
| 发明（设计）人： | 刘伟基;冀鸣;赵刚;易洪波;吴秋生 | 申请（专利权）人： | 中山市博顿光电科技有限公司;佛山市博顿光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C14/32;C23C14/04;C23C14/14 |
| 代理公司： | 广州市律帆知识产权代理事务所(普通合伙) 44614 | 代理人： | 余永文 |
| 地址： | 528400 广东省中山市火*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请涉及一种防污染装置、电离腔体及射频离子源，所述防污染装置，应用于射频离子源的电离腔体中，包括支撑部和遮挡板；其中，所述遮挡板平行于所述电离腔体的底面；所述遮挡板上分布设置有一定比例的遮挡部和开口部；所述遮挡板固定于支撑部上；所述遮挡板通过支撑部安装于离所述电离腔体的底部一设定高度位置处，由所述开口部通过电离腔体中气体电离输出的等离子体，以及由所述遮挡部遮挡进入电离腔体中的金属离子在电离腔体的底部镀上连续的金属薄膜；该技术方案，可以避免金属薄膜对射频能量的屏蔽隔离，提升了射频离子源的工作效率，确保电离腔体和射频离子源能够稳定工作。 | ||
| 搜索关键词： | 污染 装置 电离 射频 离子源 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中山市博顿光电科技有限公司;佛山市博顿光电科技有限公司，未经中山市博顿光电科技有限公司;佛山市博顿光电科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202111320485.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种特戒脚本引擎和脚本运行方法
- 下一篇：一种电力电子化光储融合并网系统
- 同类专利
- 专利分类
