[发明专利]一种光波导中金属刻蚀的方法有效
| 申请号： | 202111314960.1 | 申请日： | 2021-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN114035270B | 公开（公告）日： | 2023-10-13 |
| 发明（设计）人： | 龚正致;李超翰;谢建平 | 申请（专利权）人： | 浙江光特科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B6/132 | 分类号： | G02B6/132;G02B6/136;G02B6/122;G02B6/12 |
| 代理公司： | 南京普睿益思知识产权代理事务所(普通合伙) 32475 | 代理人： | 张丽丽 |
| 地址： | 312000 浙江省绍兴市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种优化金属刻蚀提升器件性能的方法，包括以下步骤：在脊形光波导的上包层形成孔结构；进行金属溅镀；进行金属第一次刻蚀，光刻焦距针对脊形光波导的上方得以精准控制金属微小的间距；进行金属第二次刻蚀，光刻焦距可以集中在其他位置较低的区域形成最终的金属形貌。本发明的有益之处在于，通过优化金属刻蚀工艺可以适配更小的孔到波导的距离，从而可以通过缩小距离降低PiN串联电阻，提升器件性能。改变了金属的形貌，金属分布在波导侧壁可以增加散热的能力，在气件操作过程产生的温度不致于过量累积，得以保持器件稳定的性能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 波导 金属 刻蚀 方法 | ||
【主权项】：
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