[发明专利]一种基于无转移石墨烯薄膜的全金属密封标准漏孔及其制作方法在审
| 申请号： | 202111265666.6 | 申请日： | 2021-10-28 |
| 公开（公告）号： | CN114001868A | 公开（公告）日： | 2022-02-01 |
| 发明（设计）人： | 王旭迪;林涵文;张俊;曹青;孙立臣;任国华;孟冬辉 | 申请（专利权）人： | 合肥工业大学 |
| 主分类号： | G01M3/02 | 分类号： | G01M3/02;C01B32/186 |
| 代理公司： | 安徽省合肥新安专利代理有限责任公司 34101 | 代理人： | 何梅生 |
| 地址： | 230009 安*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明提出一种基于无转移技术制备的石墨烯膜制作标准漏孔的方法，其特征是，包括以下工艺步骤：(1)利用化学气相沉积法在铜箔上制备石墨烯；(2)采用氧化等离子体蚀刻法去除铜箔其中一面的石墨烯，并在覆盖有石墨烯的另一面旋涂上一层PMMA；(3)在铜箔去除了石墨烯的那一面旋涂上一层701光刻胶，曝光显影后形成4×4个直径为10μm的圆孔结构；(4)利用过硫酸铵溶液(APS)对铜箔进行刻蚀；(5)刻蚀完毕后利用丙酮溶液除去残余的光刻胶和PMMA；(6)利用全金属真空连接径向密封接头对覆盖有无转移石墨烯的铜箔进行夹紧与封装，即可获得所需的标准漏孔。本发明制得的标准漏孔流导精确可控，本底漏率低，使用寿命长，能在更大的压强范围内提供更精确的可控泄漏率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 转移 石墨 薄膜 全金属 密封 标准 漏孔 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
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