[发明专利]一种周期栅结构的p-GaN常闭型功率器件有效

专利信息
申请号: 202111264534.1 申请日: 2021-10-28
公开(公告)号: CN114122107B 公开(公告)日: 2023-07-18
发明(设计)人: 王洪;高升;谢子敬 申请(专利权)人: 华南理工大学
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L29/20;H01L29/778
代理公司: 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 代理人: 周春丽
地址: 510640 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种周期栅结构的p‑GaN常闭型功率器件。所述器件自下而上包括衬底、成核层、缓冲层、沟道层、插入层以及势垒层;势垒层上方设置有源极和漏极,源极和漏极之间设置有形成于势垒层上的周期性p‑GaN/InGaN层,栅极设置于周期性p‑GaN/InGaN层上。周期性p‑GaN/InGaN层自下至上周期分布有多层低铟组分的InbGa1‑bN层和高铟组分的InaGa1‑aN层,且相邻的低铟组分的InbGa1‑bN层和高铟组分的InaGa1‑aN层之间均设置有p‑GaN层。本发明可以有效地提高p‑GaN中Mg的离化效率,因此在保证栅下二维电子气耗尽的基础上可以降低Mg的掺杂浓度。
搜索关键词: 一种 周期 结构 gan 常闭型 功率 器件
【主权项】:
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