[发明专利]一种高吸收高发射镁合金微弧氧化导热涂层的制备方法在审

专利信息
申请号: 202111252743.4 申请日: 2021-10-27
公开(公告)号: CN113897656A 公开(公告)日: 2022-01-07
发明(设计)人: 卢小鹏;王鑫焱;王福会 申请(专利权)人: 东北大学
主分类号: C25D11/30 分类号: C25D11/30;C25D21/12
代理公司: 沈阳优普达知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 21234 代理人: 任凯
地址: 110819 辽宁*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 发明属于金属表面处理领域,具体涉及一种高吸收高发射镁合金微弧氧化导热涂层的制备方法。本发明的技术方案如下:一种高吸收高发射镁合金微弧氧化导热涂层的制备方法,在微弧氧化制备导热涂层的过程中,电解液组分包括:硅酸钠10~15g/L、六偏磷酸钠5~8g/L、含铁氧化物A 10~15g/L、含铁氧化物B 5~10g/L、氨水10~20ml/L、氢氧化钠1~3g/L和甘油30~50ml/L;工艺参数如下:电流密度5~7A/dm2,频率200~500Hz,占空比20~40%,处理时间30~40min,温度25~35℃,给定电压上限范围450~500V。本发明能够解决现有导热涂层与基体结合力不足,涂层易老化变质,耐磨性及耐磨性较差的问题。
搜索关键词: 一种 吸收 发射 镁合金 氧化 导热 涂层 制备 方法
【主权项】:
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