[发明专利]多隔室电化学补给池在审
| 申请号： | 202111240100.8 | 申请日： | 2021-10-25 |
| 公开（公告）号： | CN114481270A | 公开（公告）日： | 2022-05-13 |
| 发明（设计）人： | 诺兰·L·齐默尔曼;查尔斯·沙尔博诺;格雷戈里·J·威尔逊;保罗·R·麦克休;保罗·王·瓦肯布格;迪帕克·萨加尔·卡莱卡达尔;凯尔·M·汉森 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C25D17/02 | 分类号： | C25D17/02;C25D17/00;C25D17/10;C25D21/12 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 电镀系统可包括电镀腔室。这些系统也可包括与所述电镀腔室流体耦接的补给组件。所述补给组件可包括容纳阳极材料的第一隔室。所述第一隔室可包括在其中容纳有所述阳极材料的第一隔室区段和通过间隔物与所述第一隔室区段分离的第二隔室区段。所述补给组件可包括与所述电镀腔室流体耦接且与所述第一隔室电耦接的第二隔室。所述补给组件也可包括与所述第二隔室电耦接的第三隔室，所述第三隔室包括惰性阴极。 | ||
| 搜索关键词： | 多隔室 电化学 补给 | ||
【主权项】：
暂无信息
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