[发明专利]一种聚合物及含其的193nm光刻用顶涂层膜的制备方法在审
| 申请号： | 202111231204.2 | 申请日： | 2021-10-22 |
| 公开（公告）号： | CN116003666A | 公开（公告）日： | 2023-04-25 |
| 发明（设计）人： | 王溯;方书农;徐森;邹琴峰 | 申请（专利权）人： | 上海芯刻微材料技术有限责任公司 |
| 主分类号： | C08F216/14 | 分类号： | C08F216/14;C08F222/20;G03F7/004;G03F7/09 |
| 代理公司： | 上海弼兴律师事务所 31283 | 代理人： | 王卫彬;陈卓 |
| 地址： | 201616 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种聚合物及含其的193nm光刻用顶涂层膜的制备方法。所述顶涂层膜由下述组合物制得，所述组合物包括聚合物和溶剂，所述聚合物的制备方法包括下列步骤：将式A所示的单体、式B所示的单体和式L所示的单体进行聚合；该顶涂层膜至少具有以下任一优势：溶解性较好、对于纯水的耐性较高、图案分辨率高。 |
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| 搜索关键词： | 一种 聚合物 193 nm 光刻 涂层 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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