[发明专利]一种非制冷红外探测器的制备方法及非制冷红外探测器有效

专利信息
申请号: 202111192830.5 申请日: 2021-10-13
公开(公告)号: CN113932926B 公开(公告)日: 2023-02-28
发明(设计)人: 翟光杰;武佩;潘辉;翟光强 申请(专利权)人: 北京北方高业科技有限公司
主分类号: G01J5/20 分类号: G01J5/20
代理公司: 北京开阳星知识产权代理有限公司 11710 代理人: 王艳斌
地址: 100071 北京市丰台*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种非制冷红外探测器的制备方法及非制冷红外探测器,制备方法包括采用CMOS工艺制备CMOS测量电路系统和CMOS红外传感结构;制备CMOS红外传感结构包括采用RDL工艺在CMOS测量电路系统的顶层金属上制备第一金属互连层或者以CMOS测量电路系统的顶层金属作为第一金属互连层;在第一互连柱上方沉积第三金属互连层以形成梁结构;采用通孔工艺和CMP平坦化工艺制备第二互连柱,沉积第四金属互连层和第二介质层以形成吸收板。通过本发明的技术方案,解决了传统MEMS工艺非制冷红外探测器的性能低,像素规模低,良率低以及一致性差的问题,优化了非制冷红外探测器的性能。
搜索关键词: 一种 制冷 红外探测器 制备 方法
【主权项】:
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