[发明专利]一种核用Zr合金表面Cr涂层的制备方法有效
申请号: | 202111136067.4 | 申请日: | 2021-09-27 |
公开(公告)号: | CN113943926B | 公开(公告)日: | 2023-01-06 |
发明(设计)人: | 阮海波;廖海燕;黄伟九;张腾飞;苏永要 | 申请(专利权)人: | 重庆文理学院 |
主分类号: | C23C14/32 | 分类号: | C23C14/32;C23C14/16;C23C14/02 |
代理公司: | 重庆晶智汇知识产权代理事务所(普通合伙) 50229 | 代理人: | 李靖 |
地址: | 402160 *** | 国省代码: | 重庆;50 |
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摘要: |
一种核用Zr合金表面的Cr涂层的制备方法,包括Zr合金基体预处理和沉积Cr涂层,所述沉积Cr涂层是电弧离子镀进行沉积,电弧离子镀中靶电流为80~100A,偏压为‑150~‑200V,每沉积1h,将偏压调至600~650V,保持3~5min,沉积过程中采用阳极层离子源进行辅助沉积。本发明采用电弧离子镀沉积的Cr涂层,消除了传统PVD制备涂层抗氧化性较差的问题,涂层均匀性、致密度高,与基体结合力优异,制备的Cr涂层厚度为7~8μm就能达到事故条件下的高温抗氧化要求,在1200℃下高温水蒸气氧化1h,涂层结构完整,没有出现破损、裂纹和脱落,含氧增重仅为7.08mg/cm |
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搜索关键词: | 一种 zr 合金 表面 cr 涂层 制备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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