[发明专利]一种核用Zr合金表面Cr涂层的制备方法有效

专利信息
申请号: 202111136067.4 申请日: 2021-09-27
公开(公告)号: CN113943926B 公开(公告)日: 2023-01-06
发明(设计)人: 阮海波;廖海燕;黄伟九;张腾飞;苏永要 申请(专利权)人: 重庆文理学院
主分类号: C23C14/32 分类号: C23C14/32;C23C14/16;C23C14/02
代理公司: 重庆晶智汇知识产权代理事务所(普通合伙) 50229 代理人: 李靖
地址: 402160 *** 国省代码: 重庆;50
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摘要: 一种核用Zr合金表面的Cr涂层的制备方法,包括Zr合金基体预处理和沉积Cr涂层,所述沉积Cr涂层是电弧离子镀进行沉积,电弧离子镀中靶电流为80~100A,偏压为‑150~‑200V,每沉积1h,将偏压调至600~650V,保持3~5min,沉积过程中采用阳极层离子源进行辅助沉积。本发明采用电弧离子镀沉积的Cr涂层,消除了传统PVD制备涂层抗氧化性较差的问题,涂层均匀性、致密度高,与基体结合力优异,制备的Cr涂层厚度为7~8μm就能达到事故条件下的高温抗氧化要求,在1200℃下高温水蒸气氧化1h,涂层结构完整,没有出现破损、裂纹和脱落,含氧增重仅为7.08mg/cm2,较常规制备的Cr涂层降低了79.72%。
搜索关键词: 一种 zr 合金 表面 cr 涂层 制备 方法
【主权项】:
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