[发明专利]一种超低粘附易除霜表面的制备方法在审
申请号: | 202111118967.6 | 申请日: | 2021-09-24 |
公开(公告)号: | CN114887852A | 公开(公告)日: | 2022-08-12 |
发明(设计)人: | 田雪林;欧阳梦玲;黄世琳;范岳;吴成蛟;陈棋元;郭睿生 | 申请(专利权)人: | 中山大学 |
主分类号: | B05D1/18 | 分类号: | B05D1/18;B05D5/00;B05D3/14;B05D3/10;B05D7/24 |
代理公司: | 深圳市创富知识产权代理有限公司 44367 | 代理人: | 高冰 |
地址: | 510275 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明属于表界面制备技术领域,具体涉及一种超低粘附易除霜表面的制备方法,本发明通过反应离子束刻蚀使硅片具备锥柱状纳米结构形貌,再通过表面活化处理接枝羟基,最后再修饰兼具低表面能及滑移效果的类液体纳米涂层,即完成超低粘附易除霜表面的制备。本发明的制备方法工艺稳定,简单易行,所得到的表面将主动防霜和被动防霜策略的优势协同整合,不仅具有类似超疏水表面的被动防霜功能,而且在长期使用下结霜后,表面所具有的超低粘附性能,可促使其在150mL/s小流量氮气风产生的风压下,轻易除去表面霜层,不需要外加大量能量进行除霜,是一种在实际应用条件下可长期反复使用的防霜除霜表面。 | ||
搜索关键词: | 一种 粘附 除霜 表面 制备 方法 | ||
【主权项】:
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