[发明专利]镀膜机中基片位置的监测方法、装置、系统及镀膜机在审
| 申请号： | 202111076240.6 | 申请日： | 2021-09-14 |
| 公开（公告）号： | CN113865483A | 公开（公告）日： | 2021-12-31 |
| 发明（设计）人： | 冀鸣;易洪波;刘伟基;赵刚 | 申请（专利权）人： | 佛山市博顿光电科技有限公司;中山市博顿光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/00 | 分类号： | G01B11/00;H04N7/18;C23C14/54 |
| 代理公司： | 北京市立方律师事务所 11330 | 代理人： | 刘延喜 |
| 地址： | 528000 广东省佛山市南海区狮山镇信息大道南3*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请实施例提供了一种镀膜机中基片位置的监测方法、装置、系统及镀膜机。所述镀膜机中基片位置的监测方法包括：获取摄像装置采集到的场景图像；基于所述场景图像确定目标基片及所述目标基片的三维位置信息；在基于所述三维位置信息确定所述目标基片处于预设的目标区域内时，发出告警信息。本申请实施例用以解决现有技术存在镀膜过程中无法及时发现基片从伞架掉落的技术问题。 | ||
| 搜索关键词： | 镀膜 机中基片 位置 监测 方法 装置 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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