[发明专利]一种原位生长碳界面层改性SiC/SiC复合材料及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202111042691.8 申请日: 2021-09-07
公开(公告)号: CN113683433B 公开(公告)日: 2022-06-17
发明(设计)人: 宋环君;陈昊然;杨良伟;金鑫;张宝鹏;于艺;刘伟;于新民;刘俊鹏;孙同臣 申请(专利权)人: 航天特种材料及工艺技术研究所
主分类号: C04B35/80 分类号: C04B35/80;C04B35/565;C04B35/622
代理公司: 北京格允知识产权代理有限公司 11609 代理人: 谭辉
地址: 100074 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了一种原位生长碳界面层改性SiC/SiC复合材料及其制备方法,该方法包括:(1)将SiC纤维预制体与第一前驱体进行反应,得到包含碳界面层的第一试样(2)将第一试样与第二前驱体进行化学气相沉积反应,进一步得到包含SiC界面外层的第二试样(3)将第二试样浸渍在第三前驱体中,得到第三试样;(4)将第三试样依次进行固化、裂解反应,得到第四试样;(5)重复步骤(3)至(4)至少一次,然后进行液态硅熔渗,得到改性SiC/SiC复合材料。本发明制备的改性SiC/SiC复合材料具有原位生长的完整碳界面层,具有优异的力学性能。
搜索关键词: 一种 原位 生长 界面 改性 sic 复合材料 及其 制备 方法
【主权项】:
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