[发明专利]一种含有嵌套的微陷阱结构的薄膜及其制备方法在审
申请号: | 202111028756.3 | 申请日: | 2021-09-02 |
公开(公告)号: | CN113737134A | 公开(公告)日: | 2021-12-03 |
发明(设计)人: | 胡忠强;赵亚楠;朱媛媛;刘明;何鋆;胡天存;张毅;崔万照 | 申请(专利权)人: | 西安交通大学;西安空间无线电技术研究所 |
主分类号: | C23C14/06 | 分类号: | C23C14/06;C23C14/16;C23C14/35 |
代理公司: | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人: | 贺小停 |
地址: | 710049 *** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 一种含有嵌套的微陷阱结构的薄膜及其制备方法,包括下层材料薄膜、上层材料薄膜和基底;下层材料薄膜设置在基底上,上层材料薄膜设置在下层材料薄膜上;下层材料薄膜原子间隙小于上层材料薄膜的原子间隙,下层材料薄膜的原子间隙嵌套进上层材料薄膜的原子间隙,形成嵌套的微陷阱结构。本发明利用磁控溅射技术生长具有嵌套的微陷阱结构的薄膜,通过控制溅射功率进而形成上下两层密度不同的薄膜,下层薄膜溅射功率小,材料密度大,原子间距小,原子间存在小空隙;而上层薄膜溅射功率大,材料密度小,原子间距较大,原子之间存在大空隙,上下两层的大小空隙组成嵌套的微陷阱结构。 | ||
搜索关键词: | 一种 含有 嵌套 陷阱 结构 薄膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
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