[发明专利]有机硅表面活性剂的用途、改善电子束光刻胶灵敏度的方法、电子束光刻胶及其制备与使用在审
| 申请号： | 202110982032.6 | 申请日： | 2021-08-25 |
| 公开（公告）号： | CN113671796A | 公开（公告）日： | 2021-11-19 |
| 发明（设计）人： | 傅志伟;梅崇余;潘新刚;冉瑞成 | 申请（专利权）人： | 江苏汉拓光学材料有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/075 | 分类号： | G03F7/075;G03F7/004;G03F7/16;G03F7/32;G03F7/40;G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海智晟知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31313 | 代理人： | 陶柳涛 |
| 地址： | 221132 江苏省徐州市徐*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明涉及一种有机硅表面活性剂的用途、改善电子束光刻胶灵敏度的方法、电子束光刻胶及其制备与使用，在制备电子束光刻胶时，加入有机硅表面活性剂。电子束光刻胶包括如下质量百分比的各组分：聚甲基丙烯酸甲酯2～15％；溶剂84.85～97.998％；有机硅表面活性剂0.002～0.15％。制备方法：将电子束光刻胶的各组分混合，得到电子束光刻胶。使用方法：将电子束光刻胶涂布在硅片上，依次经过前烘、曝光和显影，得到光刻图案。本发明提出有机硅表面活性剂用于改善电子束光刻胶灵敏度，该电子束光刻胶具有较佳的灵敏度。 | ||
| 搜索关键词： | 有机硅 表面活性剂 用途 改善 电子束光刻 灵敏度 方法 及其 制备 使用 | ||
【主权项】：
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