[发明专利]一种薄膜光学超晶格波导及其制备方法有效
| 申请号： | 202110961570.7 | 申请日： | 2021-08-20 |
| 公开（公告）号： | CN113687554B | 公开（公告）日： | 2023-09-22 |
| 发明（设计）人： | 尹志军;叶志霖;吴剑波;倪荣萍;李胜雨;张虞;许志城 | 申请（专利权）人： | 南京南智先进光电集成技术研究院有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/35 | 分类号： | G02F1/35;H10N30/00 |
| 代理公司： | 北京弘权知识产权代理有限公司 11363 | 代理人： | 逯长明;许伟群 |
| 地址： | 210000 江苏省南京市江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本申请提供一种薄膜光学超晶格波导及其制备方法，所述薄膜光学超晶格波导包括衬底层、二氧化硅层和压电薄膜层，其中，所述压电薄膜层与二氧化硅层相邻的一侧形成脊型波导，所述脊型波导具有超晶格结构，在所述压电薄膜层上还可以进一步刻蚀，在所述脊型波导相对的位置形成波导凹槽，从而降低波导损耗，本申请提供的制备所述薄膜光学超晶格波导的方法，可以压电晶圆为基础，首先制备脊型波导，再将所述脊型波导进入二氧化硅层，再利用二氧化硅层的平坦表面制备超晶格结构，从而解决了在相同条件下由于超晶格结构的正负畴刻蚀速度不同而造成的波导畴壁不平整的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 薄膜 光学 晶格 波导 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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