[发明专利]一种大口径高精度光学元件膜层应力形变调控方法有效
| 申请号： | 202110959643.9 | 申请日： | 2021-08-20 |
| 公开（公告）号： | CN113655592B | 公开（公告）日： | 2023-03-31 |
| 发明（设计）人： | 王晋峰;田杰 | 申请（专利权）人： | 中国科学院国家天文台南京天文光学技术研究所 |
| 主分类号： | G02B7/185 | 分类号： | G02B7/185;G02B7/00;G02B1/10 |
| 代理公司： | 南京知识律师事务所 32207 | 代理人： | 李湘群 |
| 地址： | 210042 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种大口径高精度光学元件膜层应力形变调控方法，其步骤包括：在光学元件的前表面进行主膜系的镀制；在光学元件的后表面进行一次镀膜，即镀制用于抵消光学元件面形变化的抵消膜层；对抵消膜层进行均匀减薄，控制减薄厚度，根据面形精度控制需要，每减薄5nm‑50nm，进行一次光学元件表面面形的检测，直至接近或达到镀膜前的面形精度。本发明由于采用均匀减薄的可控技术，使得光学元件接近或达到镀膜前的面形精度，对于现有技术而言是无法达到的；由于用于抵消的膜层厚度只进行了一次镀膜，高质量光学元件表面质量得以保证；本发明的方法无需进行反向抛光补偿膜系应力变形，大大提高了大口径高精度光学元件的生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 口径 高精度 光学 元件 应力 形变 调控 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院国家天文台南京天文光学技术研究所，未经中国科学院国家天文台南京天文光学技术研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202110959643.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种多规格方管滚压成型系统
- 下一篇：一种硅锰粉料的回收利用方法
