[发明专利]一种大口径高精度光学元件膜层应力形变调控方法

权利要求书

1.一种大口径高精度光学元件膜层应力形变调控方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤1：在光学元件的前表面进行主膜系的镀制；

步骤2：在光学元件的后表面进行一次镀膜，即镀制用于抵消光学元件面形变化的抵消膜层；

步骤3：将光学元件放入具有离子束抛光功能的真空室，对后表面进行轰击减薄，离子源均匀扫描光学元件后表面，使得材料可以被均匀的减薄，控制离子源的减薄厚度，根据面形精度控制需要，每减薄5nm-50nm，进行一次光学元件表面面形的检测，直至接近或达到镀膜前的面形精度；通过采用逐渐接近的均匀减薄方案，使面形可以受控的调整，使得光学元件接近或达到镀膜前的面形精度，最大限度的保护后表面的面形精度。

2.根据权利要求1所述的一种大口径高精度光学元件膜层应力形变调控方法，其特征在于，所述主膜系是用于实现光学系统功能的介质氧化物膜系。

3.根据权利要求2所述的一种大口径高精度光学元件膜层应力形变调控方法，其特征在于，所述主膜系的种类包括分光膜、分色膜、高反膜。

4.根据权利要求1所述的一种大口径高精度光学元件膜层应力形变调控方法，其特征在于，根据前表面膜系厚度和使用材料确定后表面用于抵消面形变化的膜层厚度。

5.根据权利要求4所述的一种大口径高精度光学元件膜层应力形变调控方法，其特征在于，抵消膜层厚度为前表面膜系总厚度的一半。

6.根据权利要求4或5所述的一种大口径高精度光学元件膜层应力形变调控方法，其特征在于，抵消膜层厚度为过正抵消，即光学元件面形发生反向变化。