[发明专利]一种用于抑制锂枝晶的具有氧缺陷的氧化物涂层及其制备方法在审
| 申请号： | 202110942698.9 | 申请日： | 2021-08-17 |
| 公开（公告）号： | CN113659282A | 公开（公告）日： | 2021-11-16 |
| 发明（设计）人： | 马玉林;木天胜;鲁泓甫;徐星;谭思平;尹鸽平;魏俊华 | 申请（专利权）人： | 哈尔滨工业大学 |
| 主分类号： | H01M50/403 | 分类号： | H01M50/403;H01M50/431;H01M50/449;H01M4/38;H01M4/62;H01M4/66;H01M10/0525 |
| 代理公司： | 哈尔滨市伟晨专利代理事务所(普通合伙) 23209 | 代理人： | 赵君 |
| 地址： | 150001 黑龙*** | 国省代码： | 黑龙江;23 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种用于抑制锂枝晶的具有氧缺陷的氧化物涂层及其制备方法，它属于锂金属负极领域。本发明要解决的技术问题为如何抑制锂枝晶的生长。本发明将氧化物颗粒在还原气氛中高温烧结，烧结后的氧化物颗粒与粘结剂混合均匀后，得到浆料，使用刮刀法，将步骤2得到的浆料涂于锂金属、铜集流体或者隔膜表面，烘干后得到用于抑制锂枝晶的具有氧缺陷的氧化物涂层。本发明电化学测试证明该具有缺陷的氧化物薄膜能够明显缓解电解液与锂金属之间的界面反应，抑制锂金属表面的锂枝晶生长，能够明显提升锂金属负极的循环稳定性和安全性能。本发明制备方法简单、可控性高，对锂金属负极的产业化应用具有重要的意义。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 抑制 锂枝晶 有氧 缺陷 氧化物 涂层 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于哈尔滨工业大学，未经哈尔滨工业大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202110942698.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
