[发明专利]一种全氟硅烷偶联剂修饰的Li负极制备方法在审

专利信息
申请号: 202110934235.8 申请日: 2021-08-16
公开(公告)号: CN113707848A 公开(公告)日: 2021-11-26
发明(设计)人: 熊杰;樊雨馨;胡音;雷天宇;陈伟;周酩杰;胡安俊;王显福 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: H01M4/1395 分类号: H01M4/1395;H01M4/62;H01M4/134;H01M10/052;C23C22/02
代理公司: 电子科技大学专利中心 51203 代理人: 吴姗霖
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明提供的一种全氟硅烷偶联剂修饰的Li负极制备方法,属于锂金属电池负极保护技术领域,先在四氢呋喃中加入1~10wt%的1H,1H,2H,2H‑全氟癸基三乙氧基硅烷,搅拌均匀后获得混合溶液;再将Li片完全浸入混合溶液中静置反应30min;取出反应后的Li片,经烘干得到全氟硅烷偶联剂修饰的Li负极。本发明利用1H,1H,2H,2H‑全氟癸基三乙氧基硅烷的分子自发组装特性,在Li片表面形成Li‑O‑Si共价键连接的致密保护层,并与SEI层通过化学键和物理缠绕效应连接,增强SEI层与Li片的粘附性;保护层中的含氟官能团能分解形成LiF,有助形成致密SEI层,提高SEI层稳定性和电池长循环性能。
搜索关键词: 一种 硅烷偶联剂 修饰 li 负极 制备 方法
【主权项】:
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