[发明专利]一种修改二维几何边框方法及相关装置有效

专利信息
申请号: 202110905655.3 申请日: 2021-08-09
公开(公告)号: CN113345050B 公开(公告)日: 2021-10-29
发明(设计)人: 胡施宇;范渊;黄进 申请(专利权)人: 杭州安恒信息技术股份有限公司
主分类号: G06T11/20 分类号: G06T11/20
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 丁曼曼
地址: 310000 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 本申请公开了一种修改二维几何边框方法,包括:将原始边框路径展开为一维路径;根据一维路径和边框修改数据生成对应的一维高度贴图;基于一维高度贴图对应的法向量偏转对一维路径进行路径绘制,得到修改后的路径数据。通过先将原始边框路径展开为一维路径,并在该一维路径的基础上生成与其对应的一位高度贴图,以便将修改数据表征在该一维高度贴图中,最后基于一维高度贴图对应的法向量偏转对一维路径进行路径绘制,得到修改后的路径数据,使得修改数据与原始的路径数据分离,降低了进行修改的复杂度,并且提高原始数据的复用率,提高了使用效率。本申请还公开了一种修改二维几何边框装置、计算设备以及计算机可读存储介质,具有以上有益效果。
搜索关键词: 一种 修改 二维 几何 边框 方法 相关 装置
【主权项】:
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