[发明专利]挠性摆片位移测试装置及测试方法有效

专利信息
申请号: 202110895112.8 申请日: 2021-08-03
公开(公告)号: CN113405474B 公开(公告)日: 2022-08-12
发明(设计)人: 张露;任春华;马昌昌;黎蕾蕾 申请(专利权)人: 重庆大学
主分类号: G01B11/02 分类号: G01B11/02;G01P15/093;G01P15/125;G01P21/00
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 周耀君
地址: 400030 *** 国省代码: 重庆;50
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摘要: 发明提供了一种挠性摆片位移测试装置及测试方法,挠性摆片包括摆舌及线圈,摆舌的部分表面覆盖有镀金膜层形成反射区,装置包括光源、分光板、温度调节器、第一反射镜组及光电探测器,光源发出的平行光在分光板处分别形成第一检测光及第二检测光,第一检测光经分光板反射至第一反射镜组,经反射后再经分光板透射后被光电探测器接收,第二检测光经分光板透射至反射区,经反射后再经分光板反射后被光电探测器接收,温度调节器用于调节线圈的温度,根据光电探测器接收的光程信息获取挠性摆片的第一位移。通过采用光学相位测量方法来测量石英加速度计的挠性摆片受温度影响的微小位移,解决了传统的电容式检测方法存在的问题。
搜索关键词: 挠性摆片 位移 测试 装置 方法
【主权项】:
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