[发明专利]基于小角X射线散射技术的关键尺寸测量系统及测量方法有效
| 申请号： | 202110894221.8 | 申请日： | 2021-08-05 |
| 公开（公告）号： | CN113624168B | 公开（公告）日： | 2023-07-28 |
| 发明（设计）人： | 杨春明;周平;边风刚 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海高等研究院 |
| 主分类号： | G01B15/00 | 分类号： | G01B15/00 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 31002 | 代理人： | 杨怡清 |
| 地址： | 201210 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种基于小角X射线散射技术的关键尺寸测量系统，包括：散射信号采集单元、控制单元和关键尺寸测量获取单元；散射信号采集单元包括光源、样品和探测器，样品为纳米光栅或纳米场效应管等周期性纳米结构器件；控制单元包括控制终端和数据存储设备，数据存储设备设置为存储关于样品的小角散射数据，控制终端设置为控制探测器的数据采集和数据存储设备的存储；关键尺寸测量获取单元对小角散射数据进行分析处理，得到样品的关键尺寸。本发明还提供了相应的方法，本发明的系统包括散射信号采集单元、控制单元和关键尺寸测量获取单元，且涉及控制终端、形成了控制‑测量‑数据获取一整套系统，以自动化地测量关键尺寸。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 小角 射线 散射 技术 关键 尺寸 测量 系统 测量方法 | ||
【主权项】：
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