[发明专利]一种基于PDMS/PUA相互复制的可变线密度光栅制作方法在审
申请号: | 202110882509.3 | 申请日: | 2021-08-02 |
公开(公告)号: | CN113484945A | 公开(公告)日: | 2021-10-08 |
发明(设计)人: | 金建;王旭迪;邸思;林文豫;孙学通 | 申请(专利权)人: | 合肥工业大学 |
主分类号: | G02B5/18 | 分类号: | G02B5/18 |
代理公司: | 安徽省合肥新安专利代理有限责任公司 34101 | 代理人: | 何梅生 |
地址: | 230009 安*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于PDMS/PUA相互复制的可变线密度光栅制作方法,其特征在于通过拉伸PDMS光栅来改变其光栅线密度,并通过夹具固定其变形,接着通过PUA紫外固化胶对变形后的PDMS光栅图案进行复制记录。最后再以PUA为新的模板,再一次将光栅反复制到PDMS上;经过以上步骤,可以在不重新制作模板的情况下,改变光栅的线密度,并且上述过程可以重复几次,从而再次提高PDMS光栅的线密度。本发明工艺需要的设备简单,具有成本低、操作简单、生产周期短等优点。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 pdms pua 相互 复制 可变 密度 光栅 制作方法 | ||
【主权项】:
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