[发明专利]一种基于PDMS/PUA相互复制的可变线密度光栅制作方法在审

专利信息
申请号: 202110882509.3 申请日: 2021-08-02
公开(公告)号: CN113484945A 公开(公告)日: 2021-10-08
发明(设计)人: 金建;王旭迪;邸思;林文豫;孙学通 申请(专利权)人: 合肥工业大学
主分类号: G02B5/18 分类号: G02B5/18
代理公司: 安徽省合肥新安专利代理有限责任公司 34101 代理人: 何梅生
地址: 230009 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明公开了一种基于PDMS/PUA相互复制的可变线密度光栅制作方法,其特征在于通过拉伸PDMS光栅来改变其光栅线密度,并通过夹具固定其变形,接着通过PUA紫外固化胶对变形后的PDMS光栅图案进行复制记录。最后再以PUA为新的模板,再一次将光栅反复制到PDMS上;经过以上步骤,可以在不重新制作模板的情况下,改变光栅的线密度,并且上述过程可以重复几次,从而再次提高PDMS光栅的线密度。本发明工艺需要的设备简单,具有成本低、操作简单、生产周期短等优点。
搜索关键词: 一种 基于 pdms pua 相互 复制 可变 密度 光栅 制作方法
【主权项】:
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