[发明专利]一种用于SiC晶片研磨的固相反应研磨盘及其制备方法和应用在审
| 申请号： | 202110876310.X | 申请日： | 2021-07-31 |
| 公开（公告）号： | CN113601390A | 公开（公告）日： | 2021-11-05 |
| 发明（设计）人： | 路家斌;曾帅;阎秋生;潘继生;聂小威;陈海阳 | 申请（专利权）人： | 广东纳诺格莱科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/11 | 分类号： | B24B37/11;B24B57/02;B24D3/28;B24D7/06;B24D18/00 |
| 代理公司： | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人： | 陈娟 |
| 地址： | 528225 广东省佛山市南海区狮山*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种用于SiC晶片研磨的固相反应研磨盘及其制备方法和应用。该固相反应研磨盘包括基盘，叠设于基盘上的填充料和嵌设于填充料中且与填充料表面齐平的若干个磨料块；所述填充料上设有贯穿填充料的气孔；所述填充料由催化剂和助研剂组成；所述磨料块由磨料、催化剂和粘接剂混合组成；所述催化剂为含铁粒子。本发明提供的固相反应研磨盘适用于SiC晶片研磨，不仅可以获得较高的材料去除率和较好的表面质量，还能够获得低损伤的SiC晶片表面，可用于表面要求较高的SiC晶片的精密研磨加工。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 sic 晶片 研磨 相反 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于广东纳诺格莱科技有限公司，未经广东纳诺格莱科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202110876310.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
