[发明专利]一种点云交变磁流变抛光装置及方法有效
申请号: | 202110873692.0 | 申请日: | 2021-07-30 |
公开(公告)号: | CN113561035B | 公开(公告)日: | 2023-04-11 |
发明(设计)人: | 阳志强;刘卫国;弥谦;郭忠达;李宏;杨利红;巩蕾;王利国;惠迎雪 | 申请(专利权)人: | 西安工业大学 |
主分类号: | B24B29/02 | 分类号: | B24B29/02;B24B1/00 |
代理公司: | 北京慕达星云知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11465 | 代理人: | 肖莎 |
地址: | 710021 陕西*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明公开了一种点云交变磁流变抛光装置及方法,包括:工装,平面光学元件,柔性抛光模,柔性抛光模的底端可移动设置在非导磁材料支撑板上,柔性抛光模的顶部与平面光学元件的底面接触;电磁铁磁场源,电磁铁磁场源包括多个阵列设置的电磁铁,多个电磁铁固定在非导磁材料支撑板的底面,相邻两个电磁铁通过铜线串接;本发明采用电磁铁作为励磁源用于驱动柔性抛光模的运动,柔性抛光模受到电磁铁磁场吸引力,就会顺着电磁铁产生磁场的顺序快速移动,进而柔性抛光模与平面光学元件表面具有了相对运动,形成剪切力,达到塑性去除平面光学元件的目的。 | ||
搜索关键词: | 一种 点云交变磁 流变 抛光 装置 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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