[发明专利]金属离子回收装置、利用其的电极制造方法及制造装置在审
| 申请号： | 202110871348.8 | 申请日： | 2021-07-30 |
| 公开（公告）号： | CN114059099A | 公开（公告）日： | 2022-02-18 |
| 发明（设计）人： | 李晙赫;林官遇;田承勋;卞景绿;徐俊喆;文太均;金成玟;许㯙 | 申请（专利权）人： | 株式会社东进世美肯 |
| 主分类号： | C25C1/20 | 分类号： | C25C1/20;C25C7/00;G02F1/1343;H01L27/32;H01L51/00;H01L51/52;H01L51/56 |
| 代理公司： | 成都超凡明远知识产权代理有限公司 51258 | 代理人： | 魏彦 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种金属离子回收装置、利用其的电极制造方法及制造装置，从电极图案的蚀刻中使用的废蚀刻液有效地回收金属离子后进行再生，并连续循环到显示器用电极制造工艺的蚀刻工艺以供再利用，从而可以增加蚀刻液的使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 金属 离子 回收 装置 利用 电极 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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