[发明专利]一种具有高光学均匀性的非线性光学材料及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202110868866.4 申请日: 2021-07-30
公开(公告)号: CN113526473A 公开(公告)日: 2021-10-22
发明(设计)人: 蔡轩臣 申请(专利权)人: 新沂市东方硕华光学材料有限公司
主分类号: C01B19/04 分类号: C01B19/04;C01B32/198;G02F1/355;C08G83/00
代理公司: 苏州市方略专利代理事务所(普通合伙) 32267 代理人: 刘纯
地址: 221400 江苏省徐州市新沂市锡沂高新区北*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 一种具有高光学均匀性的非线性光学材料及其制备方法,所述非线性光学材料,按质量份数计,主要由以下组分构成:碲化铋80‑100份、聚(3‑己基噻吩)15‑20份、酰氯化的氧化石墨烯4‑8份。本发明所述的具有高光学均匀性的非线性光学材料及其制备方法,配方设计合理,通过二维异质结构材料解决了传统的不同二维晶体堆积的晶格失配问题,碲化铋的纳米颗粒与氧化石墨烯薄片间的局域场效应和协同效应增强了非线性光学均匀性,酰氯化的氧化石墨烯作为电子受体与聚(3‑己基噻吩)的低聚噻吩分子的共价结合,使其在整个光谱区域产生更好的电子吸收,有效地猝灭了光致发光,具有更好的光限幅性能,制备工艺简单,应用前景广泛。
搜索关键词: 一种 具有 光学 均匀 非线性 光学材料 及其 制备 方法
【主权项】:
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