[发明专利]基于石墨烯/PMMA复合薄膜标准漏孔及制备方法在审

专利信息
申请号: 202110864030.7 申请日: 2021-07-29
公开(公告)号: CN113510988A 公开(公告)日: 2021-10-19
发明(设计)人: 刘招贤;孟冬辉;闫荣鑫;孙立臣;任国华;韩琰;张骁;王莉娜 申请(专利权)人: 北京卫星环境工程研究所
主分类号: B32B27/30 分类号: B32B27/30;B32B9/00;B32B9/04;B01D71/02;B01D71/38;B01D69/12;B01D67/00;G01M3/20
代理公司: 北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙) 11435 代理人: 郭栋梁
地址: 100094 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本申请提供一种基于石墨烯/PMMA复合薄膜标准漏孔及制备方法,标准漏孔包括压力侧金属刀口法兰、核心渗透组件和真空侧金属刀口法兰;核心渗透组件包括渗透部和支撑部;压力侧金属刀口法兰密封连接在渗透部相对远离支撑部的一侧;真空侧金属刀口法兰密封连接在支撑部相对远离支撑部的一侧;渗透部包括贴合设置的第一PMMA层和第一石墨烯层、以及贴合设置在第一石墨烯层相对远离第一PMMA层一侧的至少一个第二石墨烯层;支撑部贴合设置在渗透部相对远离第一PMMA层的一侧。本申请既具有石墨烯薄膜对气体极低漏率的优势,又解决了石墨烯薄膜极易破损的问题,在实际应用中,可通过调节第二石墨烯层的层数,以实现对漏率大小的控制。
搜索关键词: 基于 石墨 pmma 复合 薄膜 标准 漏孔 制备 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京卫星环境工程研究所,未经北京卫星环境工程研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110864030.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top