[发明专利]基于MXene的SERS薄膜基底的制备方法及应用在审
| 申请号： | 202110863601.5 | 申请日： | 2021-07-29 |
| 公开（公告）号： | CN113666373A | 公开（公告）日： | 2021-11-19 |
| 发明（设计）人： | 王凤平;何志权;李岩;马骏杰;何康 | 申请（专利权）人： | 北京科技大学 |
| 主分类号： | C01B32/90 | 分类号： | C01B32/90;G01N21/65;B82Y40/00;B82Y15/00 |
| 代理公司： | 北京金智普华知识产权代理有限公司 11401 | 代理人： | 朱艳华 |
| 地址： | 100083*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于MXene的SERS薄膜基底制备方法及应用，涉及表面增强拉曼散射光谱技术领域，本发明所述的方法包括使用氟化锂‑盐酸为刻蚀分层剂选择性刻蚀掉前驱体MAX材料中的Al原子层，所获得的双过渡金属碳化物二维层状材料用去离子水将其反复清洗、离心；然后将其在去离子水中分散，摇晃，再离心抽滤；得到新型的自支撑SERS薄膜基底。本发明所用的制备方法操作简单，成本低廉，具有灵敏度高，拉曼增强效果好，可重现性高等优点，可应用于环境、食品安全、生物标志物等领域的痕量检测，具有广阔的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 mxene sers 薄膜 基底 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
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