[发明专利]半导体器件和制造其的方法在审
| 申请号： | 202110862128.9 | 申请日： | 2021-07-29 |
| 公开（公告）号： | CN114068718A | 公开（公告）日： | 2022-02-18 |
| 发明（设计）人： | 金成玟;金文铉;河大元 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | H01L29/78 | 分类号： | H01L29/78;H01L29/06;H01L21/336 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 翟然 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种半导体器件包括：衬底，具有彼此分开的第一区域和第二区域；层叠结构，包括交替地堆叠在衬底上的至少一个牺牲层和至少一个有源层；第一隔离绝缘层，在第一区域上的层叠结构上；第二隔离绝缘层，在第二区域上的层叠结构上，第二隔离绝缘层具有与第一隔离绝缘层相同的厚度；第一上有源图案，与第一隔离绝缘层间隔开；第一栅电极，围绕第一上有源图案的至少一部分；第二上有源图案，与第二隔离绝缘层间隔开；以及第二栅电极，围绕第二上有源图案的至少一部分，其中第一隔离绝缘层和第二隔离绝缘层的顶表面处于不同的高度。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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