[发明专利]感测装置及其制造方法有效
| 申请号： | 202110861483.4 | 申请日： | 2021-07-29 |
| 公开（公告）号： | CN113591687B | 公开（公告）日： | 2023-06-30 |
| 发明（设计）人： | 黄郁涵;丘兆仟 | 申请（专利权）人： | 友达光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G06V40/13 | 分类号： | G06V40/13 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 陈小雯 |
| 地址： | 中国台湾新竹*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开一种感测装置及其制造方法。感测装置的制造方法包括以下步骤。提供基板。形成图案化半导体层于基板上。形成栅极绝缘层于基板上并覆盖图案化半导体层。形成栅极于栅极绝缘层上。形成层间介电层于基板上并覆盖栅极及栅极绝缘层，且层间介电层具有暴露出部分图案化半导体层的介电开口。形成第二导电材料层于层间介电层上。形成光感材料层于第二导电材料层上。通过光掩模以于基板上形成图案化光致抗蚀剂层。通过图案化光致抗蚀剂层移除部分的光感材料层以形成光感层，且移除部分的第二导电材料层以形成第一感测电极。形成第二感测电极于光感层上。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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