[发明专利]一种监测抛光垫沟槽深度变化的装置及方法在审
| 申请号： | 202110859315.1 | 申请日： | 2021-07-28 |
| 公开（公告）号： | CN113524028A | 公开（公告）日： | 2021-10-22 |
| 发明（设计）人： | 高跃昕;崔凯 | 申请（专利权）人： | 北京烁科精微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/34 | 分类号： | B24B37/34;B24B49/12 |
| 代理公司： | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 | 代理人： | 项凯 |
| 地址： | 100176 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及抛光垫技术领域，具体涉及一种监测抛光垫沟槽深度变化的装置及方法，包括修整器、修整盘、传感器、监测系统以及报警系统，修整器用于连接外部机体；修整盘与所述修整器滑动连接，用于对抛光垫进行修整；传感器与所述修整器连接，用于测量所述传感器与所述修整盘之间的目标距离；监测系统与所述传感器电连接，用于接收所述目标距离，并将所述目标距离与预设阈值进行比较；报警系统与所述监测系统电连接，用于当所述目标距离大于所述预设阈值时，发送报警信息。本发明能够解决现有技术中抛光垫沟槽深度变化监测不便的缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 监测 抛光 沟槽 深度 变化 装置 方法 | ||
【主权项】：
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