[发明专利]扫描耗尽激光显微镜在审
| 申请号： | 202110825071.5 | 申请日： | 2021-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN114063274A | 公开（公告）日： | 2022-02-18 |
| 发明（设计）人： | 霍素国 | 申请（专利权）人： | 霍素国 |
| 主分类号： | G02B21/00 | 分类号： | G02B21/00;G02B27/58;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京中誉至诚知识产权代理事务所(普通合伙) 11858 | 代理人： | 张平力 |
| 地址： | 英国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提出了两种类型的扫描耗尽激光(SDL)显微镜，以获得由艾里斑和反振幅环状体构成的耗尽纳米射束，以用于获得高分辨率纳米级图像、纳米级光刻和纳米级光信息存储。提出的第一类型的SDL(SDL‑1)采用由艾里斑透镜和相对1800相移环状透镜组成的1800相移透镜单元，以在通过激光射束后在样品表面上形成耗尽纳米射束。提出的第二类型的SDL(SDL‑II)已经采用两个1800相移激光交叉射束来分别通过零相移透镜单元的环状透镜单元和艾里斑透镜，以在样品表面上形成耗尽纳米射束。溶液和气体也可以填充在透镜单元和样品之间，以分别进一步减小纳米射束的尺寸。提出了几种透镜单元，并且还提出了多个相移透镜单元以加快过程。 | ||
| 搜索关键词： | 扫描 耗尽 激光 显微镜 | ||
【主权项】：
暂无信息
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