[发明专利]微透镜阵列耦合反射层结构制备方法有效
| 申请号： | 202110781608.2 | 申请日： | 2021-07-09 |
| 公开（公告）号： | CN113484941B | 公开（公告）日： | 2022-10-18 |
| 发明（设计）人： | 李叔伦;牛智川;倪海桥;尚向军;刘冰;朱小贵;何胜 | 申请（专利权）人： | 中国科学院半导体研究所;南京国科半导体有限公司 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 任岩 |
| 地址： | 100083 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种微透镜阵列耦合反射层结构的制备方法，其特征在于，包括：在衬底上制备微透镜阵列，其中，所述微透镜阵列包括量子点及包覆所述量子点的上盖层，所述上盖层表面为周期阵列排布的凸起结构；将所述微透镜阵列从所述衬底上剥离后转移至广谱反射层上，以形成所述微透镜阵列耦合反射层结构。本发明结合剥离工艺将微透镜阵列与反射层结构耦合，可以实现提取效率达到60％。并且该种剥离转移工艺不需要生长较多对数的DBR结构，且相对于下DBR结构可实现更高的提取效率，在后续压电调谐等方面有很大的优势，在量子光源、发光二极管、光电探测器等领域均有很大的实际应用价值和广泛的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 透镜 阵列 耦合 反射层 结构 制备 方法 | ||
【主权项】：
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