[发明专利]一种高深宽比波带片的制备方法

摘要

本发明公开了一种高深宽比波带片的制备方法，目的是高效可靠地制备高深宽比纳米级波带片。本发明首先采用电子束曝光技术得到HSQ光刻波带片图案硬掩膜，然后进行深刻蚀，将图案转移到衬底上，得到高深宽比的波带片模板，再使用原子层沉积进行材料填充，最后进行离子束抛光去除了多余的材料。该工艺可以提高纳米级波带片的深宽比，而且采用全干法工艺，提升了器件制备的可靠性，使成品率提升，适用于工业化量产。总体而言，该制备方法具有高效率、高可靠性等优点，可实现大批量、大面积的制备。