[发明专利]一种超薄超高抗双面光锂电铜箔的生产方法有效
| 申请号： | 202110762817.2 | 申请日： | 2021-07-06 |
| 公开（公告）号： | CN113638014B | 公开（公告）日： | 2022-05-24 |
| 发明（设计）人： | 曹露;黄国平;江明;张中明;李瑞强 | 申请（专利权）人： | 铜陵市华创新材料有限公司 |
| 主分类号： | C25D1/04 | 分类号： | C25D1/04;C25D3/38 |
| 代理公司： | 北京圣州专利代理事务所(普通合伙) 11818 | 代理人： | 刘岩 |
| 地址： | 244000 安徽省铜陵*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种超薄超高抗双面光锂电铜箔的生产方法，包括以下步骤：配置电解液进行哈林槽打片，每次1.5L，根据多种添加剂体系要求，添加相应的添加剂，电解液参数按照要求进行，电解液浓度为1‑20ppm；哈林槽加液1.5L，添加剂按照浓度添加，充分搅拌均匀，电流26.5A，通电50s，控制槽压4.5‑5.5V，电镀结束后‑用纯水冲洗，然后用吹风机吹干；将铜箔从阴极板剥下，检测光泽度、抗拉强度，添加剂实验每批次实验结束后换液。本发明采用上述一种超薄超高抗双面光锂电铜箔的生产方法，同时提升了铜箔的常温抗拉强度及延伸率，工艺简单，6μm高抗铜箔外观无差异。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 超薄 超高 双面 光锂电 铜箔 生产 方法 | ||
【主权项】：
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