[发明专利]一种超薄超高抗双面光锂电铜箔的生产方法

说明书

本发明公开了一种超薄超高抗双面光锂电铜箔的生产方法，包括以下步骤：配置电解液进行哈林槽打片，每次1.5L，根据多种添加剂体系要求，添加相应的添加剂，电解液参数按照要求进行，电解液浓度为1‑20ppm；哈林槽加液1.5L，添加剂按照浓度添加，充分搅拌均匀，电流26.5A，通电50s，控制槽压4.5‑5.5V，电镀结束后‑用纯水冲洗，然后用吹风机吹干；将铜箔从阴极板剥下，检测光泽度、抗拉强度，添加剂实验每批次实验结束后换液。本发明采用上述一种超薄超高抗双面光锂电铜箔的生产方法，同时提升了铜箔的常温抗拉强度及延伸率，工艺简单，6μm高抗铜箔外观无差异。

技术领域

本发明涉及新能源电池技术领域，尤其是涉及一种超薄超高抗双面光锂电铜箔的生产方法。

背景技术

随着新能源电池行业的发展，为了满足动力电池以及数码类电池的发展，尤其是数码类客户对超薄、超高抗产品的需求逐步增强。目前常规的6μm铜箔抗拉强度为30-40kgf/mm²，铜箔抗拉强度增加，延伸率会随之降低。因此同时提升铜箔抗拉强度以及延伸率，可以使电池在受热膨胀过程中不容易断裂，提升电池的容量以及安全性。

发明内容

本发明的目的是提供一种超薄超高抗双面光锂电铜箔的生产方法，同时提升了铜箔的常温抗拉强度及延伸率，工艺简单，6μm高抗铜箔外观无差异。

为实现上述目的，本发明提供了一种超薄超高抗双面光锂电铜箔的生产方法，包括以下步骤：

(1)配置电解液进行哈林槽打片，每次1.5L，根据多种添加剂体系要求，添加相应的添加剂，电解液参数按照要求进行，电解液浓度为1-20ppm；

(2)哈林槽加液1.5L，添加剂按照浓度添加，充分搅拌均匀，电流26.5A，通电50s，控制槽压4.5-5.5V，电镀结束后-用纯水冲洗，然后用吹风机吹干；

(3)将铜箔从阴极板剥下，检测光泽度、抗拉强度，添加剂实验每批次实验结束后换液。

优选的，所述步骤(1)中的电解液参数为H₂SO₄的浓度为100-110g/L，Cu²⁺的浓度为90-95g/L，Cl^-的浓度为20-30mg/L，电解液温度为46-50℃。

优选的，所述添加剂为整平剂(HC-1)、晶粒细化剂(HC-2)、分散剂(HC-3)、提抗拉剂(HC-4)四种的混合物。

优选的，所述整平剂为胶原蛋白、明胶中的一种或两种组合。

优选的，所述晶粒细化剂为醇硫基丙烷磺酸钠、N,N-二甲基二硫代甲酰胺丙烷磺酸钠中的一种或两种组合。

优选的，所述分散剂为四羟丙基乙二胺、烷基糖苷中的一种或两种组合。

优选的，所述提抗拉剂为乙撑硫脲、噻唑啉基二硫代丙烷磺酸钠中的一种或两种组合。

因此，本发明采用上述一种超薄超高抗双面光锂电铜箔的生产方法，同时提升了铜箔的常温抗拉强度及延伸率，工艺简单，6μm高抗铜箔外观无差异。

下面通过附图和实施例，对本发明的技术方案做进一步的详细描述。

附图说明

图1为本发明常温抗拉强度单值控制图；

图2为本发明烘烤抗拉强度单值控制图；

图3为本发明烘烤延伸率单值控制图；

图4为本发明6μm高抗铜箔系统生产光学显微镜图，其中a为光学显微镜X100(毛面)，b为光学显微镜X400(毛面)；

图5为本发明6μm普抗铜箔系统生产光学显微镜图，其中a为光学显微镜X100(毛面)，b为光学显微镜X400(毛面)；