[发明专利]一种宽带二元阵列天线的去耦合结构在审

专利信息
申请号: 202110761195.1 申请日: 2021-07-06
公开(公告)号: CN113764887A 公开(公告)日: 2021-12-07
发明(设计)人: 邓华阳;郑秋菊;胡珺珺;张珈瑞 申请(专利权)人: 重庆移通学院
主分类号: H01Q1/52 分类号: H01Q1/52;H01Q1/24;H01Q1/48;H01Q9/04;H01Q21/00
代理公司: 重庆莫斯专利代理事务所(普通合伙) 50279 代理人: 刘强
地址: 401520 重*** 国省代码: 重庆;50
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摘要: 发明涉及天线领域,公开了一种宽带二元阵列天线的去耦合结构,共面隔离墙设置在上层基板几何中心,两个矩形辐射贴片对称设置在共面隔离墙的两侧;低介电常数介质基板与上层基板连接;下层基板与低介电常数介质基板连接,两个矩形金属贴片对称设置在下层基板上。共面隔离墙布置在上层微带天线单元之间,可以阻断微带天线阵列单元之间直接耦合电场的传播路径,进而实现降低微带天线阵列单元之间互相耦合的目的。且隔离墙同样阻断下层微带天线单元之间的直接耦合电场的传播路径,降低宽带微带天线阵列的耦合。
搜索关键词: 一种 宽带 二元 阵列 天线 耦合 结构
【主权项】:
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