[发明专利]靶前高能质子束斑测量方法及系统在审
| 申请号： | 202110735866.7 | 申请日： | 2021-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN113376682A | 公开（公告）日： | 2021-09-10 |
| 发明（设计）人： | 敬罕涛;田斌斌;孙艳坤 | 申请（专利权）人： | 散裂中子源科学中心;中国科学院高能物理研究所 |
| 主分类号： | G01T1/29 | 分类号： | G01T1/29 |
| 代理公司： | 深圳鼎合诚知识产权代理有限公司 44281 | 代理人： | 郭燕;彭家恩 |
| 地址： | 523808 广东省东莞*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 一种靶前高能质子束斑测量方法及系统，包括将能够用于小孔成像的小孔装置设置在伽玛射线探测器和靶站之间，结合小孔成像原理，能够将靶站反角方向上靶面次级伽玛射线的像传输至像素型伽玛射线探测器上，进而可以通过所探测得到的靶面次级伽玛射线的分布信息得到靶面入射质子的束斑分布信息，能够实时的获得入射质子束斑的分布图像。由于该靶前高能质子束斑测量方法及系统可以避开强辐射的靶区，使得本系统适用于高功率散裂中子源和加速器驱动次临界系统等大型装置的靶前高能质子的束斑测量，且打靶的入射质子束流的功率越高，测量效果越好。 | ||
| 搜索关键词： | 高能 质子 测量方法 系统 | ||
【主权项】：
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