[发明专利]掩膜结构及掩膜组件有效
| 申请号： | 202110723449.0 | 申请日： | 2021-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN113355636B | 公开（公告）日： | 2022-11-29 |
| 发明（设计）人： | 邱岳;张怡;杨凯;李文星 | 申请（专利权）人： | 昆山国显光电有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人： | 娜拉 |
| 地址： | 215300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种掩膜结构及掩膜组件，掩膜结构包括：蒸镀掩膜，包括开口区和包围开口区的遮挡区；加强连接部，在蒸镀掩膜厚度方向的一侧表面设置于遮挡区，加强连接部的磁化率大于蒸镀掩膜的磁化率。本发明能够提高蒸镀过程中掩膜组件与显示基板的贴合程度，有效避免因贴合不良导致的蒸镀质量问题。 | ||
| 搜索关键词： | 膜结构 组件 | ||
【主权项】：
暂无信息
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