[发明专利]一种基于稀疏约束的人脸二值特征提取方法在审

专利信息
申请号: 202110718798.3 申请日: 2021-06-28
公开(公告)号: CN113536974A 公开(公告)日: 2021-10-22
发明(设计)人: 孙伟杰;叶学义;廖奕艺;郭文风;曾懋胜 申请(专利权)人: 杭州电子科技大学
主分类号: G06K9/00 分类号: G06K9/00;G06K9/40;G06K9/62
代理公司: 杭州君度专利代理事务所(特殊普通合伙) 33240 代理人: 朱月芬
地址: 310018 浙*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种基于稀疏约束的人脸二值特征提取方法。在经典的二值特征学习算法的基础上,本发明基于稀疏约束项,诱导产生具有行稀疏结构的投影矩阵,在投影过程中,能够提高原始特征中主要特征的贡献度,减少次要和冗余特征的影响。实际场景中,容易被噪声干扰的往往是次要特征,主要特征不易受其影响。因此本发明提取到的人脸特征具有更好的鲁棒性和稳定性,对人脸识别具有实际应用价值。
搜索关键词: 一种 基于 稀疏 约束 人脸二值 特征 提取 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杭州电子科技大学,未经杭州电子科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110718798.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top