[发明专利]一种基于稀疏约束的人脸二值特征提取方法在审
申请号: | 202110718798.3 | 申请日: | 2021-06-28 |
公开(公告)号: | CN113536974A | 公开(公告)日: | 2021-10-22 |
发明(设计)人: | 孙伟杰;叶学义;廖奕艺;郭文风;曾懋胜 | 申请(专利权)人: | 杭州电子科技大学 |
主分类号: | G06K9/00 | 分类号: | G06K9/00;G06K9/40;G06K9/62 |
代理公司: | 杭州君度专利代理事务所(特殊普通合伙) 33240 | 代理人: | 朱月芬 |
地址: | 310018 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于稀疏约束的人脸二值特征提取方法。在经典的二值特征学习算法的基础上,本发明基于稀疏约束项,诱导产生具有行稀疏结构的投影矩阵,在投影过程中,能够提高原始特征中主要特征的贡献度,减少次要和冗余特征的影响。实际场景中,容易被噪声干扰的往往是次要特征,主要特征不易受其影响。因此本发明提取到的人脸特征具有更好的鲁棒性和稳定性,对人脸识别具有实际应用价值。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 稀疏 约束 人脸二值 特征 提取 方法 | ||
【主权项】:
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